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Ceroxid-Polierpulver 0,7–1,1 µm

Ceroxid-Polierpulver (0,7–1,1 µm) ist ein hochreines, submikronäres Schleifmittel auf Basis von Ceroxid (CeO₂, auch Ceroxid genannt). Es zeichnet sich durch einen einzigartigen chemischen und mechanischen Poliermechanismus aus. Ceroxid-Waferpolierpulver findet breite Anwendung beim Präzisionspolieren von Halbleiterwafern, optischen Bauteilen und elektronischen Substraten. Es eignet sich zur Herstellung von Waferpoliersuspensionen.

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Ceroxid-Polierpulver 0,7–1,1 µm

 

BESCHREIBUNG:

Ceroxid-Polierpulver (0,7–1,1 µm) ist ein hochreines, submikronäres Schleifmittel auf Basis von Ceroxid (CeO₂, auch Ceroxid genannt). Es zeichnet sich durch einen einzigartigen chemischen und mechanischen Poliermechanismus aus. Ceroxid-Waferpolierpulver findet breite Anwendung beim Präzisionspolieren von Halbleiterwafern, optischen Bauteilen und elektronischen Substraten. Es eignet sich zur Herstellung von Waferpoliersuspensionen.

Ceroxid-Polierpulver

Eigenschaften von Ceroxid-Polierpulver 0,7-1,1 µm:
CAS-Nr.1306-38-3/1312-81-8
FormelCeroxid (CeO2)/Lanthanoxid (La2O3)
AussehenWeißes Farbpulver
WIR NICHT.215-150-4/215-200-5
Wahre Dichte6,5–7 g/cm³
Schmelzpunkt2400 Grad Celsius
Siedepunkt3500 Grad Celsius
TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]:
ArtikelGarantiewertTypischer Wert
SPRACHE≥9494,42
Seltene Erden Verunreinigungen/REOLa2O332-3634,94
CeO264-6864,57
Pr6O11≤0,20,007
Nd2O3≤0,20,002
Nicht-Seltenerd-VerunreinigungenFe2O3≤0,040,033
Al2O3≤0,50,289
Hoch≤1,50,04
MgO≤0,50,104
SiO2≤0,10,019

 

ANWENDUNGEN:

Es wird zum hochpräzisen Schleifen und Polieren von optischem Glas, Substratglas für integrierte Schaltungen, Substratglas für die Galvanisierung, hochpräzisen optischen Linsen, Kameralinsen, gehärtetem Flugzeugglas, verschiedenen Displaygläsern und anderen Produkten in über 10 Spezifikationen und Modellen eingesetzt. Es kann auch verwendet werden für

Verwendung findet dies beim Wasserbohren, Heißbohren, in der Glasherstellung usw.

 

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